TESCAN AMBER X

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TESCAN AMBER X

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TESCAN AMBER X

完美结合了分析型等离子FIB和超高分辨(UHR)扫描电镜的综合分析平台

 

等离子FIB和无漏磁超高分辨场发射扫描电镜的完美结合,无限扩展在材料表征领域的应用

 

好的产品必须具备

不仅要经得住市场的考验,还要经得过消费者的认可,才能铸就经典

消费者

认可

市场

考验

经久

耐用

全景扫描

 

贴心

售后

 

精益求精追求完美

集众多优点于一身,只为给顾客贴心完美的视频体验,让顾客更放心更安心

人性化

 

等离子FIB和无漏磁超高分辨场发射扫描电镜的完美结合,无限扩展在材料表征领域的应用

     

        TESCAN AMBER X 是完美结合了分析型等离子FIB和超高分辨(UHR)扫描电镜的综合分析平台,能够同时提供高效率、大面积样品刻蚀,多模态的样品表征,以及在无镓注入干扰状态下进行样品制备和改性。 TESCAN AMBER X 具备快速精确的等离子体FIB刻蚀和无漏磁超高分辨SEM成像的特性,使其成为多项研究的首选方案,例如快速制备出宽度可达1 毫米的截面; 高通量、多模态的FIB-SEM断层扫描,可快速获得三维重建图像和可视化数据; 元素化学和/或晶体取向研究; 无注入离子干扰状态下制备出微米和纳米结构,以便通过其它分析方法进行后续测试或表征等。

 

        

 
 

了解更多产品信息及相关价格,请您致电:024-23988977

13624018181 张经理,欢迎您前来咨询及项目洽谈。

  • iFIB+ 氙等离子FIB镜筒​
  1. 最大离子束流可达1 μA, 可实现超高刻蚀速率
  2. 分辨率 : < 15 nm
  3. 无与伦比的超大视野:1 mm @ 30 keV
  4. 快速精确的压电驱动光阑变换器

主要特性

  • BrightBeam™ 超高分辨SEM镜筒技术
  1. 无漏磁超高分辨SEM镜筒可以最大程度实现各类样品的分析和表征
  2. 分辨率:1.5 nm@ 1kV
  3. 优化的镜筒内探测器系统,进一步提高了探测能力
  4. 光阑优化提升了分辨率,特别是在高束流下分辨率
  • 最新的 Essence™ 电镜软件和用户界面​
  1. 用户界面友好 可定制化的布局

应用

  • 刻蚀和抛光大横截面 在3.5小时内完成宽度达1 mm横截面的刻蚀, 然后使用TESCAN专有的摇摆样品台,以较小的离子束流抛光横截面,这样可以抑制”幕帘效应“(curtaining),同时还可以在刻蚀过程中原位监控横截面质量。
  •  
  • FIB-SEM断层扫描​ AMBER X 是多尺度、多模态微结构表征的最佳选择。这款等离子FIB支持快速地刻蚀和抛光样品。TESCAN用于静态3D EBSD数据采集的专利技术和嵌入式FIB-SEM层析成像模块,可以支持各种成像和分析探测器,增加了实用性,使断层扫描技术可以快速、精确且便捷地应用于各类材料的分析。
  •  
  • ​无镓干扰状态下的样品制备​ 传统镓离子 FIB加工时由于镓离子污染或注入可能导致的微观结构和/或机械性能改变。氙是一种惰性元素,所以可以实现对铝等材料进行无污染的样品制备和加工。

Application Examples

 
 
 
 
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